有各种各样的设备用于进行结晶过程，称为结晶器。这种设备可分为哪几类呢？下面，就为大家带来结晶器四大类型介绍，以供大家参考哦！
1、整体溶液结晶器。晶体在溶液中悬浮很长时间，同时发生成核和生长。
2、沉淀容器。进入容器的进料流产生高过饱和度（通过化学反应、淹没或盐析），非常迅速地形成大量小晶体。
3、熔融结晶器形成多个晶体。溶液或熔体的体积（通常> 90％）在悬浮液中或在冷却表面上形成晶体。杂质残留在少量未结晶的母液中。
4、熔融结晶器形成大的高纯度单晶。晶体从高纯度熔体中慢慢形成，产生大而纯净且无缺陷的晶体。这些通常用于半导体制造。
所有这些类型的设备都有共同点：
1、产生过饱和度以驱动结晶的区域。
2、晶体与过饱和溶液接触的区域，用于晶体生长。在某些情况下，整个容器中都存在晶体，通过某种形式的搅拌悬浮;在其他情况下，晶体仅占据容器的一部分，通常作为流化床。
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